ASML 发家史：从“漏雨棚屋”到全球光刻机领域领导者

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本站 3 月 23 日消息，在当今半导体产业中，ASML（Advanced Semiconductor Material Lithography，先进半导体材料光刻）无疑是全球光刻机领域的绝对领导者。台积电、英特尔、三星等芯片制造巨头生产最先进的半导体产品，都高度依赖这家荷兰企业的设备。然而，与许多科技领域的知名企业一样，ASML 的起源也颇为低调。据公司传说，一切始于一个“漏雨的棚屋”。

ASML 最初是由电子巨头飞利浦（Philips）和先进半导体材料国际公司（ASMI）合作成立的，目标是专注于光刻系统这一新兴市场。1984 年，ASML 在荷兰埃因霍温的飞利浦旧园区 Strijp-T 成立，其第一个基地就是那座名副其实的“漏雨棚屋”。这座单层预制建筑与飞利浦 TQ 大楼的一楼相连，而 TQ 大楼是飞利浦“工业电子”部门的所在地。当时，由于 ASML 的第一套系统 PAS 2000 光刻机的液压油泵噪音极大，团队不得不将油泵放置在小屋外的集装箱中，以维持正常工作环境。

幸运的是，ASML 的业务很快就蓬勃发展起来。1985 年，公司搬进了专门建造的办公和工厂大楼。一年后，改进后的 PAS 2500 光刻机推向市场，并成为未来许多机型的基础。与此同时，ASML 与镜头制造商卡尔・蔡司（Carl Zeiss）建立了合作关系，这一合作一直延续至今。

进入 20 世纪 90 年代，ASML 推出了其“突破性平台”PAS 5500 光刻机。凭借该系统在行业领先的生产力和分辨率，ASML 在阿姆斯特丹和纽约证券交易所成功上市。

2001 年，ASML 推出了具有革命性双工件台技术的首批 Twinscan 光刻机。2010 年，该系列光刻机进一步升级，推出了采用极紫外（EUV）技术的 Twinscan NXE:3100。近年来，ASML 凭借其 EXE 平台和高数值孔径（High NA）技术，再次突破了行业极限。

根据 ASML 最近发布的年度报告，公司去年的收入接近 310 亿美元（本站注：现汇率约合 2248.48 亿元人民币），在全球拥有超过 60 个运营地点，并雇佣了超过 4.4 万名员工。